展示中国仪器仪表学会科技奖项目成果(1)

自2001年3月经科技部批准成立以来，中国仪器学会科技奖经过20多年的增长，行业认可度和影响力不断提高。获奖项目涵盖制造业、能源、化工、国防、医疗、环保、航空航天等十多个领域，已成为中国仪器领域的科技奖。我会提名的成果多次获得国家科技奖。
  2022年科技奖申报工作正在进行中，欢迎有关单位积极申报。
  项目名称：大尺寸紫外线和X射线薄膜设备技术的应用
  获奖等级：2021年技术发明一等奖
  主要完成单位：同济大学
  主要完成人：王占山，黄秋实，张众，齐润泽，伊圣振，李文斌
  极紫外线和X射线(XUV)光学技术对前沿科学问题的解决、国防装备的进步、高新技术产业的发展起着重要的支撑作用。XUV薄膜设备是其光学系统的核心，薄膜厚度仅为几纳米至不到1纳米。受纳米薄膜界面缺陷和制备技术的限制，XUV薄膜设备长期存在反射率低、设备尺寸小、衍射效率差三个问题，不能满足同步辐射光源、强场等离子体诊断等重大科学工程建设的需要，亟待创新。
  项目组开展了大尺寸、率的工作XUV创新研究了薄膜器件的精确表征方法和薄膜界面缺陷形成规律，发明了一系列关键制备技术，显著提高了设备的整体性能。主要发明点如下：
  1. 创建了XUV解耦薄膜器件界面缺陷的准确表示方法揭示了原子不均匀结晶、扩散混合和化合反应的形成规律，阐明了界面缺陷对膜间折射率差的影响，并获得了与反射率的结构关系。
  2.发明了基于不同材料和氩氮混合反应溅射的原子级屏障层XUV薄膜器件界面缺陷调节技术解决了不均匀结晶、扩散混合和有效抑制化合反应的问题，显著改善了XUV薄膜器件的反射率。
  3.发明了大尺寸的倾斜粒子调节和膜厚精确控制XUV膜生长技术开发了涂层设备，突破了界面结构和膜厚度控制问题，实现了大尺寸、高反射率的多层膜制备。
  4)发明了XUV纳米薄膜在微纳结构上的复合生长技术解决了光栅基上膜生长界面扩散不均匀的问题，实现了二维多层膜光栅的精确结构，大大提高了光栅设备的衍射效率。

授权发明16项，已发表SCI72篇论文；开发XUV英国有薄膜器件Diamond光源、德国BESSY-II光源、上海光源、北京光源、中国工程物理研究所等国内外科研机构已成功应用；近三年，直接经济效益超过6000万元。中国仪器仪表学会组织专家组对项目结果进行评估，结论如下：“整体性能达到国际先进水平，其中XUV薄膜反射率和多层膜光栅效率达到国际领先水平”。
  原标题:展示中国仪器仪表学会科技奖项目成果(1)

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